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光學(xué)鍍膜設(shè)備廣泛應(yīng)用于數(shù)碼科技(成像、顯示、電路、結(jié)構(gòu)裝飾件)，傳統(tǒng)光學(xué)、眼鏡，科學(xué)儀器、光通信、半導(dǎo)體、新能源等。光學(xué)鍍膜設(shè)備光學(xué)薄膜是建立在光學(xué)元件上鍍特定的膜質(zhì)來改變光波傳遞的特性、干涉光的效果達到的效果，高科技改變著人們的生活，光學(xué)鍍膜設(shè)備自然受到市場青睞，后期將會有更廣闊的前景，那么光學(xué)薄膜在光學(xué)系統(tǒng)中的啟到哪些作用呢？1、提高光學(xué)效率，減少雜光，例如反射鏡鍍制光學(xué)薄膜，提高或者減少光的反射效果。高反射鏡只取反射光，盡量減少透射光；減反射鏡減少光學(xué)元器件表面的發(fā)射光...
進口晶圓清洗機采用Nano-Master進口兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。進口晶圓清洗機設(shè)備特點：▲可更換清洗吸盤，可使用4-12英寸的清洗吸盤；▲操作程序可按作業(yè)需求編寫調(diào)整，設(shè)備運行流程、清洗時間及各項參數(shù)可自行編制；▲設(shè)備運行狀態(tài)及參數(shù)在線實時監(jiān)控，自動門配有安全光柵，保證操作安全；▲采用真空吸附式清洗盤，晶元夾具的取放更安全、方便；▲擺臂式清洗，清洗范圍可編制...
等離子體增強MOCVD也就是大名鼎鼎的MOCVD(金屬有機物化學(xué)氣相沉積),針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺式等離子輔助金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有加熱的氣體管路、5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)、950度樣品臺三個氣體環(huán)、PC全自動控制、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無油真空泵(5x10-7Torr極限真空)，*的安全互鎖。等離子體增強MOCVD技術(shù)特點：臺式系統(tǒng)5個帶獨立冷卻槽的...
光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的清洗：設(shè)備使用一個星期后（三班），因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時，應(yīng)對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在水溶液里，水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。注：襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。最后安裝襯板...
等離子去膠機和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。等離子去膠機的工作原理：等離子去膠法，去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，通入少量氧氣，加1500V高壓，由高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號，使石英管內(nèi)形成強的電磁場，使氧氣電離，...
光學(xué)鍍膜設(shè)備是現(xiàn)代光學(xué)和光電系統(tǒng)重要的組成部分，在光通信、光學(xué)顯示、激光加工、激光核聚變等高科技及產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域已經(jīng)成為核心元器件，其技術(shù)突破常常成為現(xiàn)代光學(xué)及光電系統(tǒng)加速發(fā)展的主因。光學(xué)薄膜的技術(shù)性能和可靠性，直接影響到應(yīng)用系統(tǒng)的性能、可靠性及成本。隨著行業(yè)的不斷發(fā)展，精密光學(xué)系統(tǒng)對光學(xué)鍍膜設(shè)備的光譜控制能力和精度要求越來越高，而消費電子對光學(xué)薄膜器件的需求更強調(diào)超大的量產(chǎn)規(guī)模和普通大眾的易用和舒適性。光學(xué)鍍膜設(shè)備在過去幾十年實現(xiàn)了長足的進展，從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助...
上周NMC專業(yè)的售后服務(wù)工程師至渭南師范學(xué)院完成了原子層沉積系統(tǒng)NLD-3000的安裝調(diào)試，并順利驗收！NLD-3000是一款PC全自動工藝控制的臺式ALD系統(tǒng)，包含完整的安全聯(lián)鎖功能，能夠沉積氧化物、氮化物、硫化物、氟化物、金屬等高品質(zhì)的薄膜，達到光學(xué)級別的表面粗糙度。陽極氧化鋁腔體采用內(nèi)外雙層上下結(jié)構(gòu)設(shè)計，加熱腔壁和氣動升降頂蓋，一鍵實現(xiàn)頂蓋開啟/閉合。系統(tǒng)集成快速脈沖傳輸閥和多孔大面積加熱的ALD過濾器，可吸收多余前驅(qū)體。工藝程序、溫度設(shè)定值、氣體流量、抽真空卸真空工序...
原子層沉積前驅(qū)體往往都是金屬有機化合物，合適的前驅(qū)體種類較少而且價格昂貴；傳統(tǒng)熱原子層沉積技術(shù)因需要長時間的惰氣吹掃以保證隨后的表面自限制薄膜生長，沉積速率較慢，不適合大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)；隨著原子層沉積技術(shù)與其他先進技術(shù)不斷融合以及人們對原子層沉積設(shè)備的不斷改進，諸如“等離子體增強原子層沉積技術(shù)”、“空間式原子層沉積技術(shù)”、“流化床原子層沉積技術(shù)”等新型原子層沉積技術(shù)逐漸出現(xiàn)并在一定程度上有效解決了傳統(tǒng)熱原子層沉積技術(shù)所面臨的諸多難題。一套成熟的空間式原子層沉積設(shè)備需保證每小時超...
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