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上周NMC專業(yè)的售后服務(wù)工程師至渭南師范學院完成了原子層沉積系統(tǒng)NLD-3000的安裝調(diào)試，并順利驗收！NLD-3000是一款PC全自動工藝控制的臺式ALD系統(tǒng)，包含完整的安全聯(lián)鎖功能，能夠沉積氧化物、氮化物、硫化物、氟化物、金屬等高品質(zhì)的薄膜，達到光學級別的表面粗糙度。陽極氧化鋁腔體采用內(nèi)外雙層上下結(jié)構(gòu)設(shè)計，加熱腔壁和氣動升降頂蓋，一鍵實現(xiàn)頂蓋開啟/閉合。系統(tǒng)集成快速脈沖傳輸閥和多孔大面積加熱的ALD過濾器，可吸收多余前驅(qū)體。工藝程序、溫度設(shè)定值、氣體流量、抽真空卸真空工序...
原子層沉積前驅(qū)體往往都是金屬有機化合物，合適的前驅(qū)體種類較少而且價格昂貴；傳統(tǒng)熱原子層沉積技術(shù)因需要長時間的惰氣吹掃以保證隨后的表面自限制薄膜生長，沉積速率較慢，不適合大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)；隨著原子層沉積技術(shù)與其他先進技術(shù)不斷融合以及人們對原子層沉積設(shè)備的不斷改進，諸如“等離子體增強原子層沉積技術(shù)”、“空間式原子層沉積技術(shù)”、“流化床原子層沉積技術(shù)”等新型原子層沉積技術(shù)逐漸出現(xiàn)并在一定程度上有效解決了傳統(tǒng)熱原子層沉積技術(shù)所面臨的諸多難題。一套成熟的空間式原子層沉積設(shè)備需保證每小時超...
原子層沉積技術(shù)經(jīng)過四十多年的發(fā)展，無論是在沉積材料的種類還是具體沉積方法的擴展與改進上，都已經(jīng)取得了長足進步，在眾多領(lǐng)域更是展現(xiàn)出令人期待的商業(yè)前景。但傳統(tǒng)的熱原子層沉積技術(shù)在發(fā)展過程中仍面臨著一些挑戰(zhàn)。比如：原子層沉積前驅(qū)體往往都是金屬有機化合物，合適的前驅(qū)體種類較少而且價格昂貴；傳統(tǒng)熱原子層沉積技術(shù)因需要長時間的惰氣吹掃以保證隨后的表面自限制薄膜生長，沉積速率較慢，不適合大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)；此外，熱原子層沉積技術(shù)難以用來沉積金屬Ti，Ta等特殊材料。隨著原子層沉積技術(shù)與其他先...
ICP刻蝕機作為核心刻蝕工藝設(shè)備，其工藝表現(xiàn)將直接影響鰭式晶體管器件的工藝性能和良率，憑借其優(yōu)良的刻蝕形貌控制、均勻性控制、較低刻蝕損傷、較高刻蝕選擇比等方面的技術(shù)優(yōu)勢，隨著半導體工藝技術(shù)的發(fā)展，濕法刻蝕由于其固有的局限性，已不能滿足超大規(guī)模集成電路微米、甚至納米級細線條的工藝加工要求，干法刻蝕逐漸發(fā)展起來。在干法刻蝕中，感應(yīng)耦合等離子體(InductivelyCoupledPlasma簡稱ICP)刻蝕法由于其產(chǎn)生的離子密度高、蝕刻均勻性好、蝕刻側(cè)壁垂直度高以及光潔度好，逐漸...
在各種集成電路的制造過程中，隨著清洗方法的不斷創(chuàng)新與聯(lián)合應(yīng)用，目前的硅片清洗機已不再是一個簡單的制作步驟，而是一個系統(tǒng)的清洗工程。硅片清洗技術(shù)的革新與發(fā)展，推動了清洗設(shè)備制造企業(yè)加大研發(fā)力度，不僅僅是制造出設(shè)備，從某個角度來說，還需根據(jù)各家硅片生產(chǎn)企業(yè)的具體情況提供不同的清洗方案和設(shè)備定制設(shè)計，幫客戶大限度地降低成本和減少損失，同時盡量減少清洗設(shè)備本身可能帶來的沾污。未來的硅片清洗機將向整合性，集成化與全自動的方向發(fā)展。由于硅片表面的污染物會嚴重影響器件的性能、可靠性和成品率...
硅片清洗機不僅保留了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了超聲波清洗的缺點。兆聲無損清洗機的工作原理是利用高能（850kHz）頻率效應(yīng)和化學清洗劑的化學反應(yīng)對硅片進行清洗。在清洗過程中，換能器發(fā)出的高能聲波波長為1m，頻率為0.8MHZ。在聲波的驅(qū)動下，溶液的分子運動得更快。瞬時速度可達30cm/s。因此，無法形成超聲清洗等氣泡。相反，硅片清洗機只能用高速的流體波不斷地沖擊晶圓片表面，迫使附著在晶圓片表面的微小污染物顆粒被去除并進入清洗溶液中。經(jīng)濟的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對消費...
影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。鏡面的粗糙度會造成入射光的漫射，降低鏡片的透光率。此外材質(zhì)的吸旋光性，也會造成某些入射光源的其中部分頻率消散的特別嚴重。例如會吸收紅色光的材質(zhì)看起來就呈現(xiàn)綠色。不過這些加工不良的因素都可以盡可能地去除。光學鍍膜系統(tǒng)我們知道是由于現(xiàn)代光學和光電系統(tǒng)重要的組成部分，在光通信、光顯示、激光加工、激光融合等高技術(shù)和工業(yè)領(lǐng)域，技術(shù)突破往往成為現(xiàn)代光學和光電子系統(tǒng)加速發(fā)展的主要原因。光學鍍膜的技術(shù)性能和可靠性直接影響到應(yīng)用系統(tǒng)的性能、可靠性和成本。隨著...
通常空氣的成分能夠看作由絕干空氣、水汽、塵土三有些組成。熱真空試驗箱溫度為音準空氣在必定壓力及溫度下所含水汽的質(zhì)量。飽和濕度為單位空氣在該條件下所能包括的大水汽質(zhì)量。溫度超市，空氣中所能包括的水汽越多，飽和濕度越大。濕度與飽和濕度的比值為相對濕度。假如堅持空氣的濕度而下降空氣的溫度，當溫度低至必定值后，水蒸汽的分壓力到達對應(yīng)于其時空氣溫度的飽和壓力，該條件下的空氣中水汽就到達飽和。假如進一步下降空氣溫度，水汽就會從空氣中冷凝析出構(gòu)成“露滴”。這種表象被稱為“凝露”。熱真空試驗...
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